2024光刻机产业深度系列专题报告：进|利来老牌国际制程关键步骤半导体设备明珠光刻

　　光刻技术作为半导体产业基石，在芯片制造中耗时最长、成本占比最高，其工艺水平决定芯片制程与性能。从技术原理看★★★，光刻是将掩模版电路图形按比例微缩并曝光于晶圆的图像复制技术★，历经多代发展，从接触式到 EUV 光刻机★★★，分辨率不断提升★，推进芯片制程节点从微米级迈向纳米级。

　　产业链上下游企业紧密协作★★★，共同推动光刻机国产化进程。茂莱光学为光刻机提供曝光物镜光学器件；福晶科技立足晶体元件★★，拓展超精密光学业务，其产品应用广泛；福光股份为光端装备打造高精密光学镜头；腾景科技深入研发合分束器用于光刻机光学系统；波长光电提供大孔径光学镜头与平行光源系统；永新光学产品涵盖工业检测显微镜与光刻镜头；蓝特光学凭借光学技术积累★★★，研发纳米级光刻机镜头系统；炬光科技供应光场匀化器，并拟向微透镜阵列拓展；赛微电子身为全球 MEMS 代工龙头，为高端光刻机供应微镜。

　　在国产光刻机发展进程中，机遇与挑战并存。陆资晶圆厂产能扩张，对光刻机需求大增★★，为国产化创造契机★★。上海微电子作为国内前道光刻机整机制造先锋，其 600 系列可量产 90nm 芯片，500 系列后道光刻机国内市场占有率超 80%★。同时，国产供应链多环节协同突破利来老牌国际★，科益虹源 193nm ArF 准分子激光器出货、国望光学等研发关键光学系统、华卓精科攻坚双工件台，为国产化筑牢根基。

　　今天分享的是：2024光刻机产业深度系列专题报告：进制程关键步骤，半导体设备明珠，光刻机市场迎国产化机遇

　　全球光刻机市场规模庞大且增长迅速，呈 ASML 主导的寡头垄断格局。2023 年市场规模达 257 亿美元，ASML、Nikon、Canon 三家占 99%以上份额利来老牌国际★。ASML 凭借持续高强度研发投入★★★，在高端 EUV★、ArFi、ArF 光刻机市场优势显著★★，出货量与营收领先，其 EUV 光刻机单价攀升，为市场规模增长关键动力。Nikon 和 Canon 则依靠价格优势占据中低端 KrF、i - line 光刻机市场。