光刻机产业深度系列专题报告（一）：“进制程关键步骤半导体设备明珠光刻

　　该报告聚焦光刻机产业★★★，深度剖析其在半导体领域核心地位、市场格局及国产化机遇。光刻为芯片制造关键，借摩尔定律驱动，经缩短光源波长★★★、增大数值孔径、优化光刻工艺因子提升分辨率，28nm 节点为性价比分水岭。光刻机系半导体设备明珠，光学系统占成本 30%★，历经五代发展★，结构复杂★★，含光源★★★、曝光、工作台等核心系统及多支撑部分，技术集多学科大成。全球市场规模千亿且高速增长★，ASML 主导高端，Nikon、Canon 占中低端，出货与营收稳步提升，EUV 单价渐涨。我国需求因晶圆厂扩产而升，然美日荷封锁促使国产化迫在眉睫。国产进程中★，上海微电子 600 系达 90nm 工艺，500 系后道设备优势显著；科益虹源 193nm 激光器出货；国望光学★、国科精密★、华卓精科等在光学系统★★★、双工件台攻坚成果斐然★★★。产业链相关公司多元发展，茂莱光学赋能 I 线物镜；福晶科技布局超精密光学；福光股份领衔特种光学镜头；腾景科技深耕合分束器研发★★；波长光电切入半导体镜头★★；永新光学提供精密仪器组件；蓝特光学推进光刻机镜头研发★★★；炬光科技供应光场匀化器并拓展业务；赛微电子担当 MEMS 代工与微镜供应重任。产业前景广阔但挑战重重，国产突破曙光初现，需持续创新突破技术瓶颈、完善产业链，提升国产化水平★★★，增强半导体产业自主可控力，在全球竞争中争得一席之地★★★，推动行业稳健发展。

　　今天分享的是：光刻机产业深度系列专题报告（一）：“进制程关键步骤，半导体设备明珠，光刻机市场迎国产化机遇